Наивысшая эффективность для очистки поверхности полупроводниковых пластин, газоочистки, активирования поверхности и производства озона.
 
Революционно-новые ксеноновые эксимерные лампы XERADEX компании OSRAM открывают абсолютно новые возможности технологического процесса. Наш запатентованный импульсный режим работы генерирует в 4 раза большую мощность излучения по сравнению с традиционными эксимерными излучателями: 40% потребляемой энергии преобразуется в используемое излучение в области вакуумного УФ (VUV). Высокая производительность этих систем позволяет эффективно и гибко использовать их в различных областях применения, таких как поверхностная обработка, производство озона, матирование лаковым покрытием, очистка воды и многие другие.
 
Уникальный принцип работы гарантирует непревзойденную производительность – не требуя охлаждения, система XERADEX обеспечивает выдающийся коэффициент преобразования 40% (электричества в УФ излучение) по сравнению с 10% традиционных синусоидальных систем. Это огромное преимущество достигается за счет нашего запатентованного импульсного режима работы и инновационного дизайна XERADEX. При совместной работе с электронным пускорегулирующим аппаратом (ЭПРА) эта компактная система достигает невиданных результатов эффективности. Кварцевая колба выполняет функцию диэлектрического барьера в уникальной электродной системе, который предотвращает образование электрической дуги в фазе разрядки. При использовании ксенона в качестве газа-наполнителя – как в случае ламп XERADEX – и при подаче на электроды импульсного напряжения заданной фазы из атомов ксенона образуются нестабильные эксимерные молекулы ксенона (Xe2*). Эти молекулы распадаются при испускании излучения в области вакуумного УФ с длиной волны 172 нм. Лампы XERADEX испускаютнекогерентноеизлучениевобластивакуумного УФ.
 
Исключительная эффективность этих систем также подразумевает отказ от охлаждения лампы, так как температура в излучателе никогда не превышает 80°C (175°F). Эти разноплановые преимущества способствуют внедрению систем XERADEX в технологический процесс даже самых модернизированных производств и в современное производственное оборудование.

Области применения

• Активирование и модификация поверхности
• Производство озона
• Очисткаи апирогенная обработка воды
• Оценка флуоресцентных веществ
• Фотохимическая аппаратура

Активирование и модификация поверхности

• Удаление полимеров:
• • Удаление органических остатков
  • Чистка фотошаблонов
  • Улучшение свойств покрытия фоторезиста
  • Увеличение коэффициента напыления
  • Удаление маскировочного покрытия
  • Травление (например, тефлона)
• Обработка поверхности:
• • Активация связей между атомами поверхности
  • Изменение краевого угла смачивания
  • Более высокая прочность покрытия
  • Улучшение адгезивных качеств
  • Более быстрое и качественное вакуумирование в технологических камерах
• Не требуется внешний озонатор для стерилизации УФ/озоном.
• Фотоиндуцированное напыление металлов при комнатной температуре с участием различных поверхностей, например, пластика
• Фотоиндуцированное химическое осаждение из газовой фазы при пониженных температурах технологического процесса (PhotoinducedCVDatlowerprocesstemperatures (высокий коэффициент осаждения, высокий темп прироста, низкая температура)
• Матирование лаковым покрытием: микрофальцовка УФ-отверждаемых покрытий для производства матовых поверхностей

Производство озона

• Прямое разложение кислорода мощным энергетическим излучением XERADEX и образование озона: без побочных продуктов, таких как NOx
• Высокоэффективное производство озона с помощью ламп XERADEX. Выработкаозона: 82 г/кВтч
• Не требуется охлаждение
• Производство озона в естественных условиях

Очистка и подготовка особо чистой воды

• Эффективное производство реактивных радикалов -OH
• Полнаяминерализацияорганическихкомпонентов
• Подготовка особо чистой воды

Другие области применения

• Оценка флуоресцентных веществ
• Фотохимическая аппаратура

Компактные системы XERADEX предлагают пользователю множество преимуществ:

• Впервые высокоэффективные источники излучения в области вакуумного УФ доступны для применения в промышленности и отвечают высоким требованиям
• Производительность 40% устраняет необходимость охлаждения лампы – температура излучателя не превышает 80°C (176°F) – возможно «холодное излучение», обработка при низкой температуре
• Комбинация лампы и электронного пускорегулирующего аппарата компактна и удобна в обращении
• Возможна установка удобных компактных систем облучения с целью минимизации занимаемой площади в чистых помещениях
• Лампа зажигается моментально без фазы разогрева, розжиг не зависит от температуры окружающей среды, прерыватели не требуются
• Цикл включений/выключений без ограничений, возможность мгновенного повторного зажигания без ущерба для срока службы лампы
• Выход для управления с помощью ПЛК
• Возможна эксплуатация лампы в различных условиях, например, в газовой среде и в вакууме
• Лампа экологически безопасна, она содержит только инертные газы, нет ртутной составляющей